HBO Microlithography Lamps for Nikon i-line Systems
Druh použití
- Microlithography
Bezpečnostní pokyny
Z důvodu vysoké svítivosti, UV záření a vysokého vnitřního tlaku (pokud jsou horké) je možné výbojky HBO používat jen v uzavřených svítidlech speciálně konstruovaných pro tento účel. V případě prasknutí světelného zdroje se uvolňuje rtuť. Musí být přijata zvláštní bezpečnostní opatření. Více informací je k dispozici na vyžádání nebo v letáku dodaném se světelným zdrojem nebo v návodu k obsluze.
Z důvodu vysoké svítivosti, UV záření a vysokého vnitřního tlaku (pokud jsou horké) je možné výbojky HBO používat jen v uzavřených svítidlech speciálně konstruovaných pro tento účel. V případě prasknutí světelného zdroje se uvolňuje rtuť. Musí být přijata zvláštní bezpečnostní opatření. Více informací je k dispozici na vyžádání nebo v letáku dodaném se světelným zdrojem nebo v návodu k obsluze.
Více o skupině výrobků
HBO lamps > 200W are designed to meet the high demands of the Semiconductor industry. With peak intensity at 365nm these lamps are ideal for microlithography and are designed and qualified for specific equipment manufacturers.
Produkty
| Název výrobku |
|
|
|
|
Formulář údajů výrobku | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
HBO 1000 W/NEL
|
750 | 47.0 | 84,5 | 187.0 | ||
|
|
HBO 1002 W/NEL
|
750 | 47.0 | 78,5 | 187.0 | ||
|
|
HBO 1002 W/NIL
|
27.1 | 190.0 | ||||
|
|
HBO 2001 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 122.25 | 251.0 | ||
|
|
HBO 2000 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 219.0 | |||
|
|
HBO 2001 W/NIEL
|
1750 | 26.0 | 112,0 | 251.0 | ||
|
|
HBO 2002 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 107,75 | 232.0 | ||
|
|
HBO 2011 W/NIL
|
2011 | 25 | 107,75 | 256.0 | ||
|
|
HBO 2011 W/NILH
|
2011 | 24.0 | 107,75 | 234.0 | ||
|
|
HBO 2501 W/NIL
|
2500 | 23.0 | 357.0 | |||
|
|
HBO 2510 W/NIL
|
2500 | 23.0 | 157,75 | 357.0 | ||
|
HBO 3500 W/NIL
|
3500 | 27.0 | 180,0 | 382.0 |